ホーム > 弁理士の紹介

弁理士の紹介

企業実務12年の弁理士を筆頭としたスタッフ陣

弁理士 好宮 幹夫
≪略歴≫
昭和57年  千葉大学工学部 卒業
昭和59年  千葉大学大学院修士課程 修了
平成3年    弁理士試験合格
平成4年   弁理士登録

専門分野:半導体、化学、機械
企業で約12年の勤務経験
半導体材料の研究開発・企業間特許紛争処理・特許実務

(登録No.10253):侵害訴訟代理業務付記登録

弁理士 小林 俊弘
≪略歴≫
平成14年  東京大学工学部応用化学科 卒業
平成17年  東京大学大学院修士課程 修了
    同年  好宮特許事務所入所
平成25年  弁理士試験合格
平成26年  弁理士登録

専門分野:化学、半導体

(登録No.19488)

弁理士 大城 公孝
≪略歴≫
1988年  慶応義塾大学理工学部 卒業
1990年  東京工業大学大学院修士課程 修了
  同年  昭和電工株式会社 入社
2008年  特許庁 入庁
2018年  好宮特許事務所 入所
  同年  弁理士登録

専門分野:化学、機械

(登録No.21511)

弁理士 大塚 徹
≪略歴≫
1993年  東京大学工学部 卒業
1995年  東京大学大学院修士課程 修了
  同年  信越化学工業株式会社、信越半導体株式会社 入社
2006年  特許庁 入庁
2018年  好宮特許事務所 入所
  同年  弁理士登録

専門分野:半導体、材料

(登録No.21514)

弁理士 吉本 淳二郎
≪略歴≫
2007年  関西学院大学理工学部 卒業
2009年  関西学院大学大学院理工学研究科 修了
同年~  国内会社 勤務
2017年  好宮特許事務所 入所
2019年  弁理士試験合格
2020年  弁理士登録

専門分野: 化学、半導体

(登録No.22165)

弁理士 森 真之介
≪略歴≫
2008年  中央大学法学部法律学科 卒業
2009年  法政大学法科大学院法務研究科 修了
2022年  弁理士試験合格
2023年  好宮特許事務所 入所
  同年  弁理士登録

専門分野: 法律、意匠、商標

(登録No.23247)

弁理士 橋本 裕二
≪略歴≫
1999年  早稲田大学理工学部 卒業
2001年  早稲田大学大学院修士課程 修了
  同年  信越化学工業株式会社 入社
2007年  株式会社東芝 入社
2012年  弁理士試験合格
2024年  好宮特許事務所 入所
  同年  弁理士登録

専門分野: 化学、半導体

(登録No.23376)

 人員(総勢30名)
  • 有機化学 --------------------- 4名
  • 無機化学 --------------------- 3名
  • 生化学 ----------------------- 3名
  • 物理・機械 -------------------- 3名
  • 電気・情報 -------------------- 3名
  • 法律 ------------------------- 2名
  • 外国 ------------------------- 6名
  • 事務 ------------------------- 6名

このページの上部へ